英特尔光刻硬件总监 2025年将部署到大批量制造 是真的吗?

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HighV光刻机有望缩小至埃级别Hing NA EUV光刻机有望将芯片的制造节点缩小至埃级别,为具有更高晶体管数量的芯片以及全新的工具、材料和系